ASML：臺(tái)積電正式宣布，感覺(jué)拜登心都碎了！
自從美方對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體實(shí)施多次限制之后，國(guó)內(nèi)對(duì)于半導(dǎo)體關(guān)注就越來(lái)越高，尤其在人民日?qǐng)?bào)的呼吁下，大量中企接連投入半導(dǎo)體領(lǐng)域，試圖趕上風(fēng)口浪尖，同時(shí)也為祖國(guó)科技發(fā)展貢獻(xiàn)自己的一份力。
可不久前的兩個(gè)消息，打破了美方在半導(dǎo)體領(lǐng)域的封鎖，引起了巨大的反響，外媒甚至評(píng)論稱：這是在討好中國(guó)！究竟發(fā)生了什么？
據(jù)《工商時(shí)報(bào)》報(bào)道，臺(tái)積電不久前針對(duì)供應(yīng)鏈需求變化做出了一項(xiàng)重要決定：取消全部的28nm制程設(shè)備采購(gòu)訂單！
要知道此前基于7nm制程產(chǎn)能利用率跌破70%，臺(tái)積電已經(jīng)全面取消了7nm制程工藝光刻機(jī)、半導(dǎo)體設(shè)備訂單。
甚至還為了降低企業(yè)運(yùn)營(yíng)開(kāi)支，將臺(tái)灣地區(qū)的部分EUV光刻機(jī)設(shè)備關(guān)閉，如今臺(tái)積電再次取消全部的28nm制程半導(dǎo)體設(shè)備訂單。
這意味著接下來(lái)要將精力全部放在2nm制程和3nm制程上了，畢竟英特爾目前就正在利用ASML的NA EUV光刻機(jī)流片2nm芯片。
雖說(shuō)英特爾較比臺(tái)積電還有著一定的差距，但此前赴美建廠的結(jié)果致使臺(tái)積電受到了嚴(yán)重影響，不僅損失了大量流動(dòng)資金，還導(dǎo)致企業(yè)在尖端研發(fā)強(qiáng)項(xiàng)上失去優(yōu)勢(shì)。
按照目前的局面來(lái)說(shuō)，除了英特爾劍走偏鋒著手研發(fā)2nm芯片之外，三星自然也不甘落后展開(kāi)2nm制程的研發(fā)階段。
不過(guò)相比于此更重要的是有消息稱三星在4nm制程領(lǐng)域的良率已經(jīng)逐漸開(kāi)始逼近臺(tái)積電，相信大家還記憶猶新，此前三星的4nm制程和5nm制程良率僅僅只有不到35%。
高通也正是因?yàn)槿橇悸蕟?wèn)題導(dǎo)致芯片出現(xiàn)嚴(yán)重發(fā)熱，從而轉(zhuǎn)到臺(tái)積電代工，如今三星的良率提升，這對(duì)于臺(tái)積電而言絕對(duì)算是一項(xiàng)新的威脅。
由此可見(jiàn)，由于市場(chǎng)的兩大競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手接連有著突破，臺(tái)積電如今不得不放棄7nm和28nm制程芯片的擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃，在先進(jìn)制程芯片工藝上投入更多精力與兩大芯片代工巨頭競(jìng)爭(zhēng)。
而臺(tái)積電因?yàn)槭袌?chǎng)趨勢(shì)做出這樣子的決策，受到影響最大的必然是ASML，據(jù)溫寧克的說(shuō)法，臺(tái)積電的砍單將致使ASML失去40%的訂單。
這對(duì)于如今斷供了大陸EUV、DUV光刻機(jī)之后的ASML來(lái)說(shuō)，無(wú)疑是雪上加霜，雖說(shuō)這個(gè)企業(yè)積累了接近3000億人民幣的訂單，但這依舊意味著不小的損失。
不過(guò)，ASML在美日荷協(xié)議問(wèn)題上，一直強(qiáng)調(diào)出口管制只涉及“最先進(jìn)”的DUV光刻機(jī)，也就是TWINSCAN NXT:2000i和2050i，并不包括1980Di型號(hào)。
這款TWINSCAN NXT:1980Di的波長(zhǎng)為38nm制程，但基于中芯國(guó)際的“SAQP四重曝光技術(shù)”，可以實(shí)現(xiàn)7nm工藝的量產(chǎn)技術(shù)。
并且目前荷蘭的“秘密協(xié)議”尚未落地，換個(gè)方向去想象，臺(tái)積電砍單ASML的訂單，等于ASML短時(shí)間內(nèi)擁有更多的精力去量產(chǎn)中國(guó)企業(yè)訂單。
某種意義上來(lái)說(shuō)，這對(duì)于中企們的擴(kuò)產(chǎn)有著一定的好處，能夠解決眼前的燃眉之急，較比于拜登政府的態(tài)度，完全就是背道而馳。因此外媒評(píng)論稱：這是在討好中國(guó)，感覺(jué)拜登心都碎了！
當(dāng)然，相比于ASML提供的半導(dǎo)體設(shè)備來(lái)說(shuō)，國(guó)產(chǎn)28nm制程光刻機(jī)也已經(jīng)迎來(lái)了最后階段，對(duì)于中企而言才是更重要的好消息。
要知道，目前針對(duì)半導(dǎo)體領(lǐng)域14nm及14nm制程以下的芯片量產(chǎn)工藝，均已處于禁令限制清單中，唯一能夠擴(kuò)產(chǎn)的也就是28nm制程。
而28nm制程以上的芯片工藝能夠滿足市場(chǎng)超過(guò)80%的需求，基于國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)突破28nm制程，意味著“中國(guó)芯”已經(jīng)在成熟工藝芯片市場(chǎng)站住了腳跟，不再需要害怕美方“卡脖子”！
并且隨著我國(guó)華為、哈工大、上海微電子等機(jī)構(gòu)、企業(yè)的研發(fā)，目前已經(jīng)具備了EUV光刻機(jī)的三大核心技術(shù)，目前高精度也已經(jīng)陸續(xù)達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)。
不久前，工信部還拉攏中企們組建了一個(gè)“中國(guó)集成電路標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)”，包括了90個(gè)中國(guó)在半導(dǎo)體領(lǐng)域的杰出企業(yè)。
相信在工信部的帶領(lǐng)下，中企們齊頭并進(jìn)，打破美方乃至LCC EUV聯(lián)盟在EUV光刻機(jī)上的壟斷封鎖，只會(huì)是時(shí)間問(wèn)題！
正如人民日?qǐng)?bào)呼吁的：只有掌握了自主技術(shù)，才能更好地服務(wù)于國(guó)家和人民的需求，促進(jìn)經(jīng)濟(jì)、社會(huì)和文化發(fā)展，同時(shí)保護(hù)國(guó)家安全與核心利益。
因此，中國(guó)科技保持自主研發(fā)的重要性不言而喻，尤其在當(dāng)前國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)加劇的背景下，中國(guó)只有進(jìn)一步提升自主研發(fā)能力，促進(jìn)科技創(chuàng)新和經(jīng)濟(jì)發(fā)展，才能保證自身的利益。